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用于半导体制造设备的气体管路控制装置

基本信息

申请号 CN201910560512.6 申请日 -
公开（公告）号 CN110289231B 公开（公告）日 2019-09-27
申请公布号 CN110289231B 申请公布日 2019-09-27
分类号 H01L21/67(2006.01)I 分类 -
发明人 霍冬冬;蔡学权 申请（专利权）人 英特尔半导体（大连）有限公司
代理机构 北京永新同创知识产权代理有限公司 代理人 英特尔半导体（大连）有限公司;英特尔公司
地址 116000辽宁省大连市经济技术开发区淮河东路
法律状态 -

摘要

摘要 本公开提供了一种用于半导体制造设备的气体管路控制装置，半导体制造设备包括处理气体供给管路、处理气体排出管路和保护气体供给管路，所述气体管路控制装置包括：保护气体供给阀，设置在保护气体供给管路中，被配置为在保护气体供给阀处于打开状态时，使得保护气体供给管路与处理气体排出管路处于连通状态，以向处理气体排出管路供给保护气体，以及在保护气体供给阀处于关断状态时，使得保护气体供给管路与处理气体排出管路处于非连通状态，以禁止向处理气体排出管路供给保护气体；以及第一控制开关，被配置为在接收到保护气体供给信号时，使保护气体供给阀处于打开状态，并且在未接收到保护气体供给信号时，使保护气体供给阀处于关断状态。