一种双衬底气化芯片

基本信息

申请号 CN202121707983.4 申请日 -
公开(公告)号 CN215798500U 公开(公告)日 2022-02-11
申请公布号 CN215798500U 申请公布日 2022-02-11
分类号 B81B1/00(2006.01)I;A61M11/00(2006.01)I 分类 微观结构技术〔7〕;
发明人 王敏锐;俞挺 申请(专利权)人 美满芯盛(杭州)微电子有限公司
代理机构 苏州瑞光知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 罗磊
地址 311231浙江省杭州市萧山区经济技术开发区桥南春晖路1号-8(自主分割)
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种双衬底气化芯片,包括:基础衬底和硅衬底,基础衬底上设置有自顶面向内凹陷形成的空腔,待气化液体设置在空腔内,空腔的底面上设置有液态源通道,基础衬底的顶面上设置有接触电极板,硅衬底底部设置有加热电极板,加热电极板通过键合金属层与接触电极板电连接,硅衬底上设置有第一气化通道结构,第一气化通道结构包括阵列排布的若干个第一气化通道单元,第一气化通道单元连通至空腔。本实用新型相较于现有技术,将陶瓷衬底或玻璃衬底与硅衬底组合形成双衬底结构,气化芯片上气化孔的孔径均匀,将气化芯片的加热区域和外围固定结构进行热隔离,降低热导,提升电加热气化效率。