模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺
基本信息
| 申请号 | CN201010291903.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101967258B | 公开（公告）日 | 2012-12-05 |
| 申请公布号 | CN101967258B | 申请公布日 | 2012-12-05 |
| 分类号 | C08L33/12(2006.01)I;C08K13/06(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08F120/14(2006.01)I;C08F2/44(2006.01)I;B29C39/02(2006.01)I;G02B6/00(2006.01)I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 双忠;吴学庆;赵伟毅;宋浩波;司兵;李黔蜀;宋瑜琦;陈国兴;陆前吟 | 申请（专利权）人 | 贵州天控自动化信息工程有限公司 |
| 代理机构 | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人 | 贵州天控自动化信息工程有限公司 |
| 地址 | 550001 贵州省贵阳市金阳新区创新路5号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种模具转印点阵法制备光散射聚合物导光板的工艺，将纳米、亚纳米导光粒子经过表面改性后与MMA单体进行原位聚合，得到导光粒子分散母粒；再将得到的导光粒子分散母粒、引发剂、分散剂及增塑剂加入到MMA中进行预聚合，得PMMA预聚体；将PMMA预聚制浆浇铸到带散射点阵的硅玻璃模具中进行聚合，固化出模后得到带散射点阵的纳米改性导光板。本发明采用原位聚合的方式，使纳米、亚纳米导光粒子在原料单体中的有效分散，聚合后得到光粒子分散母粒，然后按常规浇注法PMMA板工艺，得到带散射点阵的纳米改性导光板。该法发挥印刷法和光散射聚合物法各自优势，首先利用点阵将射向表面的光线反射，提高光释出率。 |
