一种单室磁控溅射真空镀膜机
基本信息
| 申请号 | CN202121262258.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214830638U | 公开（公告）日 | 2021-11-23 |
| 申请公布号 | CN214830638U | 申请公布日 | 2021-11-23 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黄成日;池连花;张坡 | 申请（专利权）人 | 山东艾酷博纳米材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京化育知识产权代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
| 地址 | 274200山东省菏泽市成武县经济开发区滨湖东路机电智造小镇13号-A | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于镀膜机技术领域，具体涉及一种单室磁控溅射真空镀膜机，包括设备本体，所述设备本体内部开设有过渡仓和工作仓，所述过渡仓设置在工作仓的上方，所述过渡仓的内部设置有升降组件，并延伸至工作仓的内部，所述升降组件包括两个托板和四个固定杆，四个所述固定杆均设置在两个托板之间，本实用新型通过挡板将设备本体的内部分割成过渡仓和工作仓两个空间，在取料时驱动组件启动，通过电机、主动轮、从动轮和转轴让升降组件从工作仓的内部进入过渡仓的内部，通过托板将过渡仓和工作仓密封后，启动密封组件，从而将工件取出，实现了设备本体内部空间不与外部空间接触下进行下料的功能。 |
