一种改进型离子束表面镀膜用装置
基本信息
| 申请号 | CN202121263906.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215365963U | 公开（公告）日 | 2021-12-31 |
| 申请公布号 | CN215365963U | 申请公布日 | 2021-12-31 |
| 分类号 | C23C14/34（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 黄成日;池连花;许宜科 | 申请（专利权）人 | 山东艾酷博纳米材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京化育知识产权代理有限公司 | 代理人 | 尹均利 |
| 地址 | 274200 山东省菏泽市成武县经济开发区滨湖东路机电智造小镇13号-A | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型属于镀膜设备技术领域，公开了一种改进型离子束表面镀膜用装置，包括箱体，所述箱体的内部安装有溅射枪，所述箱体的一侧设置有第三电机，所述第三电机的一侧通过链条转动连接有辊轴，所述箱体的内部开设有第一真空腔、第二真空腔、第三真空腔，所述第一真空腔的内部设置有靶材，所述第二真空腔与所述第三真空腔的顶部分别通过铰链转动连接有密封盖，所述箱体的内部安装有控制器；本实用新型设置了安装板，安装板通过第五电机可以带动靶材旋转，安装板通过第四电机可以调整靶材的倾斜角度，以防止溅射枪长期击打在靶材的一个位置进而导致靶材的损耗不均匀，影响到覆膜的效果，提高了本装置覆膜的质量。 |
