一种用于单片湿处理制程的槽式工艺系统
基本信息
申请号 | CN202122226073.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215965212U | 公开(公告)日 | 2022-03-08 |
申请公布号 | CN215965212U | 申请公布日 | 2022-03-08 |
分类号 | B08B3/12(2006.01)I;B08B3/14(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)I | 分类 | 清洁; |
发明人 | 史蒂文·贺·汪;刘立安;王亦天;吴仪 | 申请(专利权)人 | 新阳硅密(上海)半导体技术有限公司 |
代理机构 | 北京市盈科律师事务所 | 代理人 | 陈晨;申晨 |
地址 | 201616上海市松江区思贤路3600号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种用于单片湿处理制程的槽式工艺系统,其中,用于单片湿处理制程的槽式工艺系统包括清洗槽、基片夹具以及驱动装置,基片夹具与驱动装置连接;清洗槽内注入有工艺液体;基片夹具用于夹持基片,基片可在驱动装置的驱动下浸入清洗槽的工艺液体内以进行湿处理工艺。本实用新型提供的用于单片湿处理制程的槽式工艺系统,基片夹具一次仅夹持一个基片,该基片在驱动装置的驱动下浸入工艺液体,一方面避免了基片间交叉感染的风险,另一方面也确保了基片与工艺液体的充分、均匀接触,提高了清洗效果。 |
