一种卷绕式PVD物理学沉积真空磁控溅射镀银铜合金层方法
基本信息
| 申请号 | CN201810038344.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108330447A | 公开（公告）日 | 2018-07-27 |
| 申请公布号 | CN108330447A | 申请公布日 | 2018-07-27 |
| 分类号 | C23C14/16;C23C14/20;C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谭勇 | 申请（专利权）人 | 广东鑫丰海电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市智圈知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 韩绍君 |
| 地址 | 523000 广东省东莞市东城街道牛山社区牛山工业园伟恒路5号A栋一楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种卷绕式PVD物理学沉积真空磁控溅射镀银铜合金层方法，包括在PET基膜表面除杂预处理、抽真空、充入惰性气体、加热、溅射复合多种金属层等步骤。磁控溅射镀表银铜合金层的总厚度很薄，有效节省了生产时间；使得PET基膜表面层最终达到电流导通、电磁波防护、屏蔽信号干扰作用，复合合金层可以大幅度提高导电层与外界介质的阻隔性，电磁波防护、屏蔽信号干扰、提高整体屏蔽效果。 |
