一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201822241966.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209292468U | 公开（公告）日 | 2019-08-23 |
| 申请公布号 | CN209292468U | 申请公布日 | 2019-08-23 |
| 分类号 | C23C14/35;C23C14/56 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谭勇 | 申请（专利权）人 | 广东鑫丰海电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 汤东凤 |
| 地址 | 523106 广东省东莞市东城街道牛山社区牛山工业园伟恒路5号A栋一楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型适用于真空镀膜技术领域，提供了一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置,包括盘形仓和镀膜筒，盘形仓具体为两个，两个盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头。本实用新型结构简单，操作使用方便，在使用过程中抽真空较为方便快捷，有利于进行推广使用。 |
