一种集成电路掩模设计的优化方法及计算机可读的存储介质
基本信息
| 申请号 | CN201710065850.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106777829B | 公开（公告）日 | 2019-04-12 |
| 申请公布号 | CN106777829B | 申请公布日 | 2019-04-12 |
| 分类号 | G06F17/50（2006.01）I | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 张生睿; 俞宗强; 施伟杰 | 申请（专利权）人 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 代理机构 | 深圳市智享知识产权代理有限公司 | 代理人 | 深圳晶源信息技术有限公司; 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市福田区福保街道红棉道英达利科技数码园C座301F | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种集成电路掩模设计的优化方法包括以下步骤，步骤S1：提供一种集成电路的全芯片设计版图，在全芯片设计版图中随机抓取多个设计版图小区域；步骤S2：对选取的设计版图小区域版图进行基于像素的掩模优化，输出每个设计版图小区域的掩模设计的像素灰度图；步骤S3：利用所述小区域掩模像素灰度图和其对应的小区域设计版图，建立BP人工神经网络模型；步骤S4：将全芯片设计版图送入所述BP人工神经网络模型，获得全芯片设计版图的掩模设计灰度图，本发明还提供一种用于存储集成电路掩模设计的计算机程序的介质。 |
