全芯片掩模图案生成的方法、装置及计算机可读介质
基本信息
| 申请号 | CN201810155893.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108490735A | 公开（公告）日 | 2018-09-04 |
| 申请公布号 | CN108490735A | 申请公布日 | 2018-09-04 |
| 分类号 | G03F1/76 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李江伟;丁明 | 申请（专利权）人 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 代理机构 | 深圳市智享知识产权代理有限公司 | 代理人 | 深圳晶源信息技术有限公司;东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市福田区福保街道红棉道英达利科技数码园C座301F | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种全芯片掩模图案生成的方法，包括：通过处理器从多边形目标图案生成初始掩模图像；通过所述处理器对所述初始掩模图像执行基于全芯片的全局图像优化以生成新的掩模图案多边形，其中所述基于全芯片的全局图像优化为协同优化主要特征多边形和辅助特征图像像素；基于全芯片的全局图像优化确定性能指标信息，其中性能指标信息包括用于辅助全局多边形优化的数据；通过使用所述性能指标信息对所述新的掩模图案多边形进行全局多边形优化来生成掩模；及所述掩模基于局部多边形优化生成优化的掩模图案。本发明还提供了全芯片掩模图案生成的装置及计算机可读介质。全芯片掩模图案生成的方法、装置及计算机可读介质具有优化速度快等优点。 |
