一种光源、偏振及掩模联合优化方法及电子设备
基本信息
| 申请号 | CN202010928268.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111965935A | 公开（公告）日 | 2020-11-20 |
| 申请公布号 | CN111965935A | 申请公布日 | 2020-11-20 |
| 分类号 | G03F1/36;G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 丁明;施伟杰 | 申请（专利权）人 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 代理机构 | 深圳市智享知识产权代理有限公司 | 代理人 | 东方晶源微电子科技（北京）有限公司深圳分公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区粤海街道软件园二期12栋401C室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及集成电路光刻技术领域，尤其涉及一种光源、偏振及掩模联合优化方法及电子设备。一种光源、偏振及掩模联合优化方法包括如下步骤：S1、输入掩模的设计版图；S2、在所述掩模的设计版图上设置多个误差监测点；S3、设定优化变量为x，所述优化变量x包括光源强度变量、偏振角度变量以及掩模变量；S4、基于Hopkins‑Abbe混合光刻成像模型关联误差监测点获得关于优化变量x的目标函数cost；及S5、优化目标函数cost直至其收敛，以获得优化后的掩模、光源及偏振，基于Hopkins‑Abbe混合光刻成像模型对光源强度变量、偏振角度变量以及掩模变量进行优化，使得能获得较好的工艺制造窗口。 |
