一种高性能铜箔及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201510988193.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105780066A | 公开（公告）日 | 2016-07-20 |
| 申请公布号 | CN105780066A | 申请公布日 | 2016-07-20 |
| 分类号 | C25D1/04(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I | 分类 | 电解或电泳工艺；其所用设备〔4〕; |
| 发明人 | 何枇林;其他发明人请求不公开姓名 | 申请（专利权）人 | 深圳百嘉达新能源材料有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 528000 广东省佛山市禅城区季华西路131号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种高性能铜箔及其制备方法，其特征在于：其显微组织中的晶粒由两种不同粒度范围的晶粒组成，一种为常规的微米晶，一种为纳米晶；纳米晶的粒度范围是10?200纳米，微米晶的粒度范围是0.5微米－10微米；纳米晶的体积分数60%以上，微米晶的体积分数在40%以下，微米晶分布在纳米晶中。该铜箔采用电解、室温轧制而成。 |
