一种铽‑锗‑铋材料、制备方法及其应用
基本信息
申请号 | CN201610198054.2 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN105861860B | 公开(公告)日 | 2017-11-28 |
申请公布号 | CN105861860B | 申请公布日 | 2017-11-28 |
分类号 | C22C1/02(2006.01)I;C22F1/02(2006.01)I;C22C28/00(2006.01)I;C09K5/14(2006.01)I | 分类 | 冶金;黑色或有色金属合金;合金或有色金属的处理; |
发明人 | 姚金雷;颜长;沈娇艳 | 申请(专利权)人 | 张家港市乐余科创园投资发展有限公司 |
代理机构 | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 苏州科技学院;张家港市乐余科创园投资发展有限公司 |
地址 | 215009 江苏省苏州市苏州高新区科锐路1号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种铽‑锗‑铋材料、制备方法及其应用。它的化学式为Tb4Ge3‑xBix,其中,x为Bi的含量,0.2≤x≤2.9;具有反Th3P4型立方晶体结构,空间群为I‑43d。本发明提供的铽‑锗‑铋材料在235~350K的温度区间呈现较大磁熵变,具有较大的磁制冷能力,良好的热、磁可逆性质,且价格低廉,是理想的室温区磁制冷材料。 |
