一种化学气相沉积固态先驱体供给设备
基本信息
申请号 | CN200410062706.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN100339504C | 公开(公告)日 | 2007-09-26 |
申请公布号 | CN100339504C | 申请公布日 | 2007-09-26 |
分类号 | C23C16/448(2006.01) | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 邱海鹏;韩立军;王冬;商凯东 | 申请(专利权)人 | 锦州市三特真空冶金技术工业有限公司 |
代理机构 | 中国航空专利中心 | 代理人 | 中国航空工业第一集团公司北京航空制造工程研究所;锦州市三特真空冶金技术工业有限公司 |
地址 | 100024北京市朝阳区八里桥 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明属于复合材料制造技术,涉及一种化学气相沉积装置的改进。它包括惰性气体管路1、进气管12、可编程控制器6,其特征在于,有一个封闭的加热装置8,混合罐10安装在加热装置8的内腔中;有一个由载气管路5、气体质量流量控制器3、固态蒸发器9、数字显示压力表4和连接管14组成的气路,固态先驱体放置在固态蒸发器9内。本发明实现了化学气相沉积过程的全自动控制;提高了生产效率和产品质量。 |
