真空感应化学气相沉积/渗透系统分布式控制装置
基本信息
| 申请号 | CN200710010132.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101003896A | 公开（公告）日 | 2007-07-25 |
| 申请公布号 | CN101003896A | 申请公布日 | 2007-07-25 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01) | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王庆;巴德纯;王冬 | 申请（专利权）人 | 锦州市三特真空冶金技术工业有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳东大专利代理有限公司 | 代理人 | 锦州市三特真空冶金技术工业有限公司;东北大学 |
| 地址 | 121003辽宁省锦州市太和区锦义街66号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种真空感应化学气相沉积/渗透系统分布式控制装置属于自动控制领域。本发明装置包括上位机、协议转换器、温度控制器、DA转换模块、真空计、质量流量控制器和可编程控制器，当可编程控制器的个数大于1时还包括适配器。上位机分别与可编程控制器、协议转换器相连，当可编程控制器的个数大于1时通过适配器与上位机相连，协议转换器分别与温度控制器、DA转换器相连，DA转换器与真空计、质量流量控制器相连。上位机嵌入了系统登录模块、控制系统界面模块、串口通信模块、温度控制模块、流量控制模块、真空度采集模块和数据存储模块。本发明通讯、数据处理能力强；控制系统的结构易于调整、升级，抗干扰能力强；通用性强。 |
