化学气相共沉积与渗透先驱体自动供给装置
基本信息
申请号 | CN200420073084.3 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN2716285Y | 公开(公告)日 | 2005-08-10 |
申请公布号 | CN2716285Y | 申请公布日 | 2005-08-10 |
分类号 | C23C16/448 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 邱海鹏;韩立军;王冬;商凯东 | 申请(专利权)人 | 锦州市三特真空冶金技术工业有限公司 |
代理机构 | 中国航空专利中心 | 代理人 | 中国航空工业第一集团公司北京航空制造工程研究所;锦州市三特真空冶金技术工业有限公司 |
地址 | 100024北京市朝阳区八里桥 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型属于复合材料技术,涉及对化学气相共沉积与渗透装置使用的先驱体自动供给装置的改进。它包括碳先驱体供给部分、惰性气体供给部分、陶瓷先驱体自动供给部分和可编程序控制器4,其特征在于,有一个总先驱体混合罐15,它的内腔通过管路分别与陶瓷先驱体混合罐13和碳先驱体混合罐14的内腔连通,并且通过管路16与化学气相共沉积与渗透装置连接。本实用新型可以同时进行碳和陶瓷的沉积与渗透。 |
