一种用于铜/钼（铌）/IGZO膜层的蚀刻液、蚀刻补充液及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202010659770.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111808612A | 公开（公告）日 | 2020-10-23 |
| 申请公布号 | CN111808612A | 申请公布日 | 2020-10-23 |
| 分类号 | C09K13/08(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 徐帅;张红伟;李闯;胡天齐;钱铁民 | 申请（专利权）人 | 江苏和达电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 江苏和达电子科技有限公司;四川和晟达电子科技有限公司 |
| 地址 | 212212江苏省镇江市新坝镇扬中长江大桥东侧 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种用于铜/钼(铌)/IGZO膜层的蚀刻液、蚀刻补充液及其制备方法和应用，蚀刻液包括以下组分：5～15％双氧水；0.1～10％硝酸和/或硫酸；0.1～2％氢氟酸和/或氟化铵；1～10％有机酸；1～10％有机碱；0.08～1％氮唑类金属缓蚀剂；0.1～1％苯基脲；余量水。蚀刻补充液包括以下组分：5～30％硝酸和/或硫酸；0.1～5％氢氟酸和/或氟化铵；5～30％有机酸；5～30％有机碱；0.1～2％氮唑类金属缓蚀剂；余量水。本发明的蚀刻液、蚀刻补充液使得SD/IGZO膜层经两次蚀刻后具有良好坡面角，防止IGZO膜层严重拖尾，减少光罩使用数量，铜负载能力高，生产成本低。 |
