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一种光学薄膜材料及其制备方法、偏光片

基本信息

申请号	CN202110203205.X	申请日	-
公开（公告）号	CN112812347A	公开（公告）日	2021-05-18
申请公布号	CN112812347A	申请公布日	2021-05-18
分类号	C08J5/18;C08L33/12;C08L69/00;G02B5/30	分类	有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物;
发明人	高西萍;刘秋明;胡树;程士心;孙立民;蔡绪福;张利利	申请（专利权）人	聚纶材料科技（深圳）有限公司
代理机构	深圳市兰锋盛世知识产权代理有限公司	代理人	罗炳锋
地址	518000 广东省深圳市南山区南头街道南海大道3025号创意大厦13-14楼
法律状态	-

摘要

本发明适用于材料技术领域，提供了一种光学薄膜材料及其制备方法、偏光片，该光学薄膜材料的制备方法以聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）为基料，通过引入具有耐高温性能和高韧性的聚碳酸酯（PC），可以很好地改善薄膜材料的耐高温性能和韧性；并且还引入了可在材料体系中很好分散并与体系中的物料很好相容的查尔酮类官能团类聚甲基丙烯酸甲酯树脂（双折射率调节剂），并采用双螺杆挤出机和单螺杆挤出机挤出成膜设备配合使用，既可保证PC与PMMA很好地相容，又可使得共混后制得的光学薄膜材料不仅具有良好的耐高温性能，而且还具有相位差调节功能，很好地改善了传统的PMMA单一负性双折射率的问题，可满足目前市场对光学薄膜的多样化需求。