一种阴极保护用高性能交流干扰排流器
基本信息
| 申请号 | CN202022775623.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213866420U | 公开（公告）日 | 2021-08-03 |
| 申请公布号 | CN213866420U | 申请公布日 | 2021-08-03 |
| 分类号 | C23F13/04（2006.01）I;H02H9/04（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 占稳;程伟晶;谢凡;周仁提;张威;鄢世平;王钻;祖运鹤;段海涛 | 申请（专利权）人 | 中国机械总院集团武汉材料保护研究所有限公司 |
| 代理机构 | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘艺玮 |
| 地址 | 430030湖北省武汉市硚口区宝丰二路126号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种阴极保护用高性能交流干扰排流器，包括：壳体，其为铸铝防爆箱，所述壳体包括箱体和可启闭设置于所述箱体上的上盖；电容，其为无极性电容，所述电容固定在所述箱体的内底面上；多个二极管，所述二极管固定在所述箱体的内壁上；浪涌保护器，其固定在所述箱体的内底面上。本实用新型通过采用多个大功率的二极管，能有效地导通直流大电流，可靠地将电容两端地电压钳制在2V以下，避免了可能出现地二极管过流烧毁、电容过压击穿的故障。 |
