一种磁控溅射镀膜磁性靶材
基本信息
| 申请号 | CN202023303473.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214782106U | 公开（公告）日 | 2021-11-19 |
| 申请公布号 | CN214782106U | 申请公布日 | 2021-11-19 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周其刚;李宪民;戴慧敏 | 申请（专利权）人 | 南京欧美达应用材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董建林 |
| 地址 | 211100江苏省南京市江宁经济技术开发区铺岗街379号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜磁性靶材，其特征在于所述磁性靶材是通过若干块同材质的磁性材料拼接而成，其拼接线的形状与磁场布局的形状一致。本实用新型所述靶材设计为多块靶材拼接而成，且拼接线按磁场布局设计，使磁力线可以沿拼接线轻松穿透，能够吸引离子轰击靶材表面，使磁性材料也能应用于各种磁控溅射镀膜中，丰富了靶材的多样性，便于生产更多样的镀膜材料。 |
