一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法

基本信息

申请号 CN202110826699.7 申请日 -
公开(公告)号 CN113529019A 公开(公告)日 2021-10-22
申请公布号 CN113529019A 申请公布日 2021-10-22
分类号 C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 徐仕立 申请(专利权)人 东莞市晶博光电股份有限公司
代理机构 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人 李英华
地址 523000 广东省东莞市塘厦镇四村正龙横街2号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及AR技术领域,具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法,它包括以下步骤:步骤1、对基片进行清洗干燥;步骤2、采用多弧离子镀,利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴,液滴在电场作用下沉积在基片表面,形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突;步骤3、磁控溅射镀硅光学膜,该光学膜的厚度300纳米以内,得到超硬仿生AR片,本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式,可以实现该种结构的仿生消反效果,同时可以实现大批量生产,并且成本低廉,还可以实现3D造型。