一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法
基本信息
申请号 | CN202110826699.7 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113529019A | 公开(公告)日 | 2021-10-22 |
申请公布号 | CN113529019A | 申请公布日 | 2021-10-22 |
分类号 | C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 徐仕立 | 申请(专利权)人 | 东莞市晶博光电股份有限公司 |
代理机构 | 东莞科强知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 李英华 |
地址 | 523000 广东省东莞市塘厦镇四村正龙横街2号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及AR技术领域,具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法,它包括以下步骤:步骤1、对基片进行清洗干燥;步骤2、采用多弧离子镀,利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴,液滴在电场作用下沉积在基片表面,形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突;步骤3、磁控溅射镀硅光学膜,该光学膜的厚度300纳米以内,得到超硬仿生AR片,本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式,可以实现该种结构的仿生消反效果,同时可以实现大批量生产,并且成本低廉,还可以实现3D造型。 |
