一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法
基本信息
| 申请号 | CN202110826699.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113529019A | 公开（公告）日 | 2021-10-22 |
| 申请公布号 | CN113529019A | 申请公布日 | 2021-10-22 |
| 分类号 | C23C14/14;C23C14/32;C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 徐仕立 | 申请（专利权）人 | 东莞市晶博光电股份有限公司 |
| 代理机构 | 东莞科强知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李英华 |
| 地址 | 523000 广东省东莞市塘厦镇四村正龙横街2号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及AR技术领域，具体涉及一种利用多弧离子镀和磁控溅射镀制备超硬仿生AR片的方法，它包括以下步骤：步骤1、对基片进行清洗干燥；步骤2、采用多弧离子镀，利用弧光放电时快速蒸发硅靶形成液滴，液滴在电场作用下沉积在基片表面，形成0.5‑3微米厚的硅纳米乳突；步骤3、磁控溅射镀硅光学膜，该光学膜的厚度300纳米以内，得到超硬仿生AR片，本发明利用多弧离子镀和磁控溅射镀相结合的方式，可以实现该种结构的仿生消反效果，同时可以实现大批量生产，并且成本低廉，还可以实现3D造型。 |
