一种ALD加工设备
基本信息
| 申请号 | CN202120163712.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214400713U | 公开（公告）日 | 2021-10-15 |
| 申请公布号 | CN214400713U | 申请公布日 | 2021-10-15 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 万军;王辉;廖海涛;王斌 | 申请（专利权）人 | 无锡市邑晶半导体科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京众达德权知识产权代理有限公司 | 代理人 | 安磊 |
| 地址 | 214028 江苏省无锡市新吴区观山路1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及一种ALD加工设备。其中的加工设备的反应器包括真空腔室以及反应腔室，反应腔室内置于真空腔室内，反应腔室顶部敞口，反应腔室的底部开设有进气通道及出气通道，真空腔室的侧面上设置有第一料口，升降装置的输出端设置可将反应腔室顶部密封的封盖，抓取装置设置在封盖上，抓取装置用于抓取输送至真空腔室内的基体，送料腔室设置在反应器的外侧，送料腔室设置有第二料口以及第三料口，第二料口和第一料口连通设置，第二料口和第一料口之间设置有可开启的第一密封门，送料腔室上设置有可将第三料口开闭的第二密封门，送料腔室内设置有用于将基体输送至真空腔室内的输送装置。本实用新型可保证沉积膜的成型质量和一致性。 |
