一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置
基本信息
| 申请号 | CN201220447337.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN203034083U | 公开（公告）日 | 2013-07-03 |
| 申请公布号 | CN203034083U | 申请公布日 | 2013-07-03 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 陈娘洲 | 申请（专利权）人 | 深圳市特艺实业有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 518117 广东省深圳市龙岗区平地镇教育南路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置。它由一固定瓣和两交替轮换瓣组成真空镀膜室；两轮换瓣内附有可扩展的镀件转架，其在于镀件转架上可灵活变换镀件挂轴数量以及电极数量。真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成，由二瓣壳体组合工作，配套双镀件转架实现可连续交替工作。受“伯力努”流体理论启发，采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室，实现密闭室体平滑连接消除死角，使真空镀膜室的密闭型腔无湍流渦浪涌，大程度限制气浪冲击，限制真空镀膜室的升压率，节省真空达标时间。双镀件转架引用“行星轮系构形”，在轮系的径向处均布排列镀件单元转架，实现自由镀件转架扩展，实现镀件转架任意调速。 |
