一种静电喷射阵列系统的优化控制方法专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种静电喷射阵列系统的优化控制方法

基本信息

申请号	CN201110054077.3	申请日	-
公开（公告）号	CN102211066B	公开（公告）日	2013-06-19
申请公布号	CN102211066B	申请公布日	2013-06-19
分类号	B05B5/025(2006.01)I;B05B12/00(2006.01)I	分类	一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕;
发明人	顾文华	申请（专利权）人	杭州建新浮法玻璃工业有限公司
代理机构	南京经纬专利商标代理有限公司	代理人	顾文华
地址	210016 江苏省南京市白下区御道街29号
法律状态	-

摘要

一种静电喷射阵列系统的优化控制方法，属于静电喷射技术领域。包含有两个或两个以上静电喷射单元，特征在于：每个静电喷射单元包括一个独立的或与其他静电喷射单元共用的电荷产生或注入开关（6），一个独立的或与其他静电喷射单元共用的液体流量控制装置或液体输送开关（7）；该静电喷射阵列系统还包括一个与电荷产生或注入开关（6）、液体流量控制装置或液体输送开关（7）相连的自动控制装置（4），该自动控制装置（4）通过以下方式之一或几种方式的组合实现开关模式即每个喷头的喷射的开关状态、时间和周期：控制电荷的产生或注入通路，或液体的流量，或液体输送通断来实现喷头。本发明具有实用性、喷射更均匀、能够在工业化生产上大规模使用的特点。