一种全α相钽涂层的制备方法
基本信息
申请号 | CN202110517827.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113235060A | 公开(公告)日 | 2021-08-10 |
申请公布号 | CN113235060A | 申请公布日 | 2021-08-10 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 陈汉宾;李忠盛;吴护林;丛大龙;黄安畏;杨九州;陈大军;李立;张昭林;付扬帆 | 申请(专利权)人 | 中国兵器装备集团第五九研究所有限公司 |
代理机构 | 重庆晶智汇知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 李靖 |
地址 | 400039重庆市九龙坡区渝州路33号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种全α相钽涂层的制备方法,以钽作为溅射靶材,基体材料加热后,在氩气形成的0.6~0.95MPa工作压力下,用霍尔电源对基体材料表面进行轰击,然后调节基体材料正对靶材,加入直流溅射电流14~25A,待靶材起弧稳定后,在基体表面加入直流偏压40~80V,偏电流为60~90A。通过本发明方法,制备出全α相钽涂层,该涂层具有优异的耐腐蚀性能,与基体材料结合强度高、内应力低,可大幅度提高涂层的使用寿命,为工件提供长期有效的防护;该方法降低了制备成本,不采用昂贵惰性气体,也无需进行高温处理;本发明中磁控溅射温度低,适用于多种金属材料,而不降低工件性能。 |
