超高精度3D打印系统（nanoArch P140）
基本信息
| 申请号 | CN201830222261.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN304952116S | 公开（公告）日 | 2018-12-18 |
| 申请公布号 | CN304952116S | 申请公布日 | 2018-12-18 |
| 分类号 | - | 分类 | - |
| 发明人 | 蔡俊林;周建林;郭再勋;贺晓宁;方绚莱 | 申请（专利权）人 | 重庆摩方科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市科吉华烽知识产权事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳摩方材料科技有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市龙华区观湖南大富社区虎地排118号锦绣大地8号楼5层B区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 1．本外观设计产品的名称：超高精度3D打印系统（nanoArch P140）。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于超精密光固化3D打印及微纳材料加工制备。3．本外观设计产品的设计要点：产品形状及外观。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：主视图。 |
