一种CVDMask的清洗设备
基本信息
| 申请号 | CN202023346155.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214683179U | 公开（公告）日 | 2021-11-12 |
| 申请公布号 | CN214683179U | 申请公布日 | 2021-11-12 |
| 分类号 | B08B3/08（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;B01D46/10（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D53/32（2006.01）I;B01D53/04（2006.01）I;B01D53/22（2006.01）I | 分类 | 清洁; |
| 发明人 | 钱超;余洋;植启东;黄斌 | 申请（专利权）人 | 南京深光科技有限公司 |
| 代理机构 | 济南鼎信专利商标代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 梁国海 |
| 地址 | 211102江苏省南京市江宁区燕湖路189号（江宁开发区） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种CVD Mask的清洗设备，包括反应箱体，反应箱体的顶部连通有溶液添加釜，反应箱体的顶部连通有等离子体生成器，反应箱体内腔的两侧固定安装有三组支块组，三组支块组的顶部均活动安装有槽板，槽板中间部的内部连通有第二电磁阀，第二电磁阀的底部固定安装有连接软管，反应箱体内腔的底部开设有导流槽。通过截留滤箱，进入的气体经过PM二点五滤层将反应后生成的颗粒性物质过滤，并经过气体半透层，将未反应完全的气态物质进行截留，进而等离子过滤层，将反应过程生成的等离子物质进行过滤，完成过滤流程，通过设置观察窗，可以使得作业人员直观地观察到内部的清洗与反应的情况，进一步增加了作业人员的安全。 |
