一种高精度的X射线成像材料
基本信息
| 申请号 | CN201810203831.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN108485656A | 公开（公告）日 | 2018-09-04 |
| 申请公布号 | CN108485656A | 申请公布日 | 2018-09-04 |
| 分类号 | C09K11/61;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 郭素文;陈磊;郑岩;姚静;侯成义;刘洁;何文;张瑞君;宋长波;戚佳斌;范宏伟 | 申请（专利权）人 | 上海科炎光电技术有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201619 上海市松江区洞泾工业区洞舟路8号8幢 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明一种高精度的X射线成像材料,它包括基质材料BaFCl，含有Eu的主激活剂，含有Ce，Sm，Gd，Dy，Tb的共激活剂，含有K+和NH4+的卤素化合物的助溶剂，其特征是以NH4F作为络合剂，采用共沉淀的方法制备出前驱体BaFCl基质材料，然后再将激活剂和助溶剂与基质材料混合均匀后以硼氢化钠作为还原剂在反应釜中恒温搅拌，搅拌均匀后将反应釜置于微波反应器中，反应完成后在紫外灯下除去表面被氧化的物质，然后经过水洗处理后得到白色材料，粒度分布为50‑100nm。 |
