一种等离子密度可调的离子源装置
基本信息
| 申请号 | CN202110002081.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114724911A | 公开（公告）日 | 2022-07-08 |
| 申请公布号 | CN114724911A | 申请公布日 | 2022-07-08 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01J37/08（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张瑶瑶;刘小波;胡冬冬;张怀东;刘海洋;李娜;郭颂;李晓磊;许开东 | 申请（专利权）人 | 江苏鲁汶仪器股份有限公司 |
| 代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 221300江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路8号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子密度可调的离子源装置，包括离子源腔、放电腔、螺旋线圈、平面线圈和射频电源；离子源腔和放电腔从外至内依次同轴设置；放电腔的头部设置有进气面板；螺旋线圈同轴套设在放电腔的筒身外周，两者间具有径向间隙R；平面线圈同轴安装在进气面板的外侧上游，两者间具有轴向间隙L；螺旋线圈和平面线圈的一端均依次与功率分配器、射频匹配器和射频电源电连接，另一端均接地；功率分配器能对进入螺旋线圈和平面线圈的射频功率进行分配，通过对分配率r进行调节，从而实现放电腔内等离子密度分布的调节。本发明同时采用螺旋形和平面线圈，并对两个线圈进行功率分配，针对不同工况进行调节，能有效改善刻蚀均匀性。 |
