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新型高靶材利用率平面磁控溅射阴极

基本信息

申请号	CN201710299682.4	申请日	-
公开（公告）号	CN107083537B	公开（公告）日	2019-10-01
申请公布号	CN107083537B	申请公布日	2019-10-01
分类号	C23C14/35	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	张诚	申请（专利权）人	三河市衡岳真空设备有限公司
代理机构	北京汉昊知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	冯谱
地址	065201 河北省廊坊市三河市燕郊高新区河北兴远有色金属材料有限公司用地南侧、区间路东侧
法律状态	-

摘要

本发明提供了一种新型的平面磁控溅射阴极，该平面磁控溅射阴极包括靶材、背板、磁体装置以及导磁板，靶材设置在背板的一侧，导磁板设置在背板的另一侧，磁体装置设置在背板和导磁板之间，其中，磁体装置包括中间磁体和环绕该中间磁体的外圈磁体，中间磁体包括至少两个电磁铁，外圈磁体和中间磁体朝向靶材的磁极其二者极性相反；平面磁控溅射阴极还包括电磁铁电源，该电磁铁电源与该至少两个电磁铁连接，为该至少两个电磁铁依次供电以使外圈磁体和中间磁体之间的磁场分布不断发生变化。实施本发明可以有效提高靶材的利用率、防止靶材污染、提高溅射速率的稳定性。此外，本发明所提供的平面磁控溅射阴极还具有结构简单、易于控制、可靠性高的特点。