一种活性纳米级单晶二氧化硅
基本信息
| 申请号 | CN201310260665.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103804958B | 公开（公告）日 | 2015-11-18 |
| 申请公布号 | CN103804958B | 申请公布日 | 2015-11-18 |
| 分类号 | C09C1/28(2006.01)I;C09C3/04(2006.01)I;C09C3/06(2006.01)I;C09C3/08(2006.01)I;C09C3/10(2006.01)I;C08K9/06(2006.01)I;C08K9/04(2006.01)I;C08K9/02(2006.01)I;C08K3/36(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 许荣 | 申请（专利权）人 | 上海那博新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 上海科律专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 金碎平 |
| 地址 | 201822 上海市嘉定区尚学路225、229号3幢5027室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种活性纳米级单晶二氧化硅，其特征在于，单晶二氧化硅的加工过程为：1）粗旷筛选，水性环境，水洗、酸洗、中和处理PH值控制在4～10，去处矿石表面杂质单晶粗粉碎，2）干式粉碎，线速度6m/s～25m/s,空气压力2～18公斤；3）单晶分级工艺，干式分级单晶精研磨工艺；4）湿法粉碎，中性水性环境，不破坏单晶形貌的条件下进行分散处理纳米级研磨，对颗粒进行最终细度加工，使其达到纳米级10～800纳米，使其比表面积最大化，以达到易分散效果纳米级颗粒成型加工，?最终颗粒外形处理抛光，使其表面活性更大，更易于橡胶结合成型；5）纳米表面加工，纳米活性处理，液体加工成粉体。 |
