一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置

基本信息

申请号 CN201510895744.9 申请日 -
公开(公告)号 CN105463582B 公开(公告)日 2019-06-11
申请公布号 CN105463582B 申请公布日 2019-06-11
分类号 C30B33/02(2006.01)I 分类 晶体生长〔3〕;
发明人 汤海燕 申请(专利权)人 汇隆电子(金华)有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 321000 浙江省金华市经济开发区工业园区汇隆电子(金华)有限公司
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及热处理装置领域,具体为一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置。本发明是通过下述技术方案实现的:一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置,包括真空箱和排真空装置组成,其特征是所述真空箱有内外三层组成,由内到外为真空处理箱、加热传热层、外密封舱,所述真空处理箱内设置有若干层退火架、退火架下方设置氮气管、液氮气管和冷水管,氮气管设置有氮气出气孔,液氮气管和冷水管为全密封管道,平行设置互不交叉或贴近,两者都贴设在退火架下方与退火架连接为一体。