一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置
基本信息
申请号 | CN201510895744.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN105463582B | 公开(公告)日 | 2019-06-11 |
申请公布号 | CN105463582B | 申请公布日 | 2019-06-11 |
分类号 | C30B33/02(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
发明人 | 汤海燕 | 申请(专利权)人 | 汇隆电子(金华)有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 321000 浙江省金华市经济开发区工业园区汇隆电子(金华)有限公司 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及热处理装置领域,具体为一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置。本发明是通过下述技术方案实现的:一种用于低应力低氧化处理的高温高真空退火装置,包括真空箱和排真空装置组成,其特征是所述真空箱有内外三层组成,由内到外为真空处理箱、加热传热层、外密封舱,所述真空处理箱内设置有若干层退火架、退火架下方设置氮气管、液氮气管和冷水管,氮气管设置有氮气出气孔,液氮气管和冷水管为全密封管道,平行设置互不交叉或贴近,两者都贴设在退火架下方与退火架连接为一体。 |
