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一种方便维护的等离子蚀刻装置

基本信息

申请号 CN202120501213.8 申请日 -
公开（公告）号 CN214627527U 公开（公告）日 2021-11-05
申请公布号 CN214627527U 申请公布日 2021-11-05
分类号 H05K3/06（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分类 其他类目不包含的电技术;
发明人 赵义党;李志强;李志华;廖文晗;贝亮 申请（专利权）人 珠海恒格微电子装备有限公司
代理机构 广州三环专利商标代理有限公司 代理人 卢泽明
地址 519000广东省珠海市横琴新区宝华路6号105室-63474（集中办公区）
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及电路板加工设备技术领域，尤其涉及一种方便维护的等离子蚀刻装置，包括：基座；蚀刻箱，设置在基座上，具有内腔并且上端敞开；盖体，可转动盖设在蚀刻箱的上端；等离子发生组件，设置在盖体上；转动驱动机构，一端铰接在基座上，另一端与盖体铰接，转动驱动机构用于驱使盖体相对蚀刻箱转动以打开或关闭内腔；本实用新型的等离子蚀刻装置采用上端敞开的蚀刻箱，盖体连接有转动驱动机构并且铰接在蚀刻箱上，等离子发生组件安装在盖体上，可以通过转动驱动机构驱使盖体相对蚀刻箱转动进而打开蚀刻箱，方便清理维护蚀刻箱内部，并且方便对等离子发生组件进行维护清理，提升维护的效率和生产的效率。