一种晶圆级光学元件及其制备方法
基本信息
申请号 | CN201810597451.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN108873119B | 公开(公告)日 | 2022-05-10 |
申请公布号 | CN108873119B | 申请公布日 | 2022-05-10 |
分类号 | G02B3/00(2006.01)I;G02B5/00(2006.01)I | 分类 | 光学; |
发明人 | 李凡月;雷玫;肖艳芬 | 申请(专利权)人 | 华天慧创科技(西安)有限公司 |
代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 | 代理人 | - |
地址 | 710018陕西省西安市经济技术开发区凤城五路123号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种晶圆级光学元件,包括至少一个光学元件模块,所述光学元件模块包括基板和在基板上形成的若干个光学元件,各光学元件具有透光区和非透光区,非透光区包括第一阻光层和第二阻光层,第一阻光层位于基板和光学元件之间,第二阻光层位于不接触基板的光学元件表面,第二阻光层在基板的竖直投影与第一阻光层相接合或至少部分重叠。利用光刻技术设置尺寸精度高的第一阻光层,避免了现有技术中阻光层大面积覆盖基板,克服了阻光层与助黏剂大面积接触而导致的结合力差的缺点,提高了晶圆级光学元件的可靠性;同时,由于第二阻光层的制备方法对尺寸的精度要求低,使得整个光学元件对非透光区尺寸精度要求容差变大。 |
