原子层沉积方法、装置及计算机可读存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202010348348.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111501017B | 公开（公告）日 | 2022-02-01 |
| 申请公布号 | CN111501017B | 申请公布日 | 2022-02-01 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李哲峰;乌磊;梁立元;聆领安辛 | 申请（专利权）人 | 深圳市原速光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人 | 许峰 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种原子层沉积方法，原子层沉积装置包括沉积设备和卷料的输送装置，所述卷料的输送装置包括相邻设置的主辊筒和第一从辊筒，所述原子层沉积方法包括以下步骤：启动所述沉积设备开始运行；启动所述卷料输送装置工作，且在所述主辊筒转动时，获取第一从辊筒对应的卷料参数，其中，所述卷料参数包括卷料张力和/或卷料压力；在所述卷料参数超出预设参数范围内时，调节所述第一从辊筒对应的电机的转速。本发明还公开了一种原子层沉积装置及计算机可读存储介质，通过主辊筒转动时获取第一从辊筒对应的卷料参数，根据卷料参数的大小调节第一从辊筒对应的电机的转速，使得电机的转速更加合理，卷料表面的原子层沉积更加均匀。 |
