线性串联的原子层沉积系统
基本信息
| 申请号 | CN202010348349.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113637955A | 公开（公告）日 | 2021-11-12 |
| 申请公布号 | CN113637955A | 申请公布日 | 2021-11-12 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I;C23C16/54（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 李哲峰;乌磊;聆领安辛 | 申请（专利权）人 | 深圳市原速光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人 | 王径武 |
| 地址 | 518000广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种线性串联的原子层沉积系统，其中，所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置，真空放卷装置套设有卷料，用于将卷料拉出；真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置，真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收；至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间，并依次连接；真空沉积装置用于对卷料沉积处理；真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本发明技术方案调整卷料在传送过程中的位置，以改善卷料表面的原子沉积效果。 |
