一种冷水辊及原子层沉积设备
基本信息
申请号 | CN202020673135.5 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN212335294U | 公开(公告)日 | 2021-01-12 |
申请公布号 | CN212335294U | 申请公布日 | 2021-01-12 |
分类号 | C23C16/46(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 李哲峰;乌磊 | 申请(专利权)人 | 深圳市原速光电科技有限公司 |
代理机构 | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 | 代理人 | 魏兰 |
地址 | 518000广东省深圳市宝安区新安街道群辉路1号优创空间一号楼511-513 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种冷水辊及原子层沉积设备,其中冷水辊内设置有第一流道和第二流道。本实用新型技术方案通过在冷水辊的轴心位置开设第一流道,但第一流道不贯穿冷水辊,并在冷水辊的内部开设第二流道,当卷料的料条贴附在冷水辊的外周壁上,随着水流不断的经过第二流道,给冷水辊的外周壁进行快速降温,有效降低料条的温度,且本实用新型冷水辊的结构简单,将本实用新型冷水辊设置在具有较高气密性要求的设备上后,仅需将冷水辊上具有入水接口和出水接口的一端进行气密性保护即可,无需两端气密性保护,减少冷水辊另一端泄气的风险,进行有效提高整机的气密性。 |
