一种等离子体退火设备
基本信息
申请号 | CN202022876090.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN213483721U | 公开(公告)日 | 2021-06-18 |
申请公布号 | CN213483721U | 申请公布日 | 2021-06-18 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C30B33/02(2006.01)I;C30B33/04(2006.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 廖奇泊 | 申请(专利权)人 | 淄博绿能芯创电子科技有限公司 |
代理机构 | 上海段和段律师事务所 | 代理人 | 李佳俊;郭国中 |
地址 | 255025山东省淄博市高新区中润大道158号MEMS产业园区8#楼4楼416 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型提供了一种等离子体退火设备,包括真空腔室和退火腔室,所述真空腔室位于退火腔室上方,且所述真空腔室与退火腔室之间连通有连通口,所述真空腔室连通有进气管,所述真空腔室内设置有等离子源,所述等离子源位于进气管在真空腔室侧壁上的管口的下侧,且所述真空腔室内还设置有磁场过滤组件,所述退火腔室内设置有用于放置硅片的基台,所述基台上设置有下部电极,且所述基台位于连接口的正下方,且所述退火腔室上还设置有温度调节装置以及压力调节组件。实现在低温条件下对放置在基台上的硅片栅氧化层进行退火处理,减少了栅氧化层中的缺陷,进而有助于提高退火效果。 |
