一种原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用专利查询专利号|摘要-满商公司网

一种原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用

基本信息

申请号	CN202110941492.4	申请日	-
公开（公告）号	CN113862641A	公开（公告）日	2021-12-31
申请公布号	CN113862641A	申请公布日	2021-12-31
分类号	C23C16/455（2006.01）I;C23C16/52（2006.01）I	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	解明;李煜宇;郭萍梅;万翠翠;钱凡;杨程晟	申请（专利权）人	柔电（武汉）科技有限公司
代理机构	北京众达德权知识产权代理有限公司	代理人	张晓冬
地址	430056湖北省武汉市沌口经济技术开发区新江大路8号
法律状态	-

摘要

本发明属于材料表面包覆技术领域，尤其涉及一种原子层沉积前驱体用量的监测系统及其方法与应用，包括：椭偏仪或X射线反射仪，用于质控体和基体以监控包覆层厚度；气体流量计，用于实时控制气体流量；微分电化学质谱，用于监控尾气成分；所述椭偏仪与原子层沉积反应腔相邻设置；所述质控体与所述基体设于所述原子层沉积反应腔内，进行包覆处理；所述气体流量计设于所述原子层沉积反应腔内壁，所述微分电化学质谱与所述原子层沉积反应腔的尾气系统相连。对反应程度进行实时检测和反应结束状态进行预判，保证了基体和前驱体充分接触反应，实现对反应进程的准确把控，对前驱体用量的精确控制，解决了ALD包覆生产中前驱体用量大和利用率低的问题。