反光壳体及其制备方法、包括反光壳体的反光一体盔及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202011594115.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112684528A | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN112684528A | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | G02B5/122;G02B1/14;G02B1/10;B29D99/00;B29C69/02;A42B3/06 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 许明旗;梁桂德;黄兆霆;朱庆金;高鸿达;林德铃 | 申请（专利权）人 | 福建夜光达科技股份有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 362241 福建省泉州市晋江市龙湖埔锦开发区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了反光壳体及其制备方法、包括反光壳体的反光一体盔及其制备方法，包括保护层；反光层，所述反光层包括依次连接的PVC基膜层、棱锥层、金属蒸镀层；所述保护层的厚度大于所述反光层的厚度,所述反光层与保护层通过胶黏剂复层贴合形成连续性反光壳体；本申请通过选用由保护层、反光层两层膜结构形成连续性反光壳体，同时保护层的厚度大于反光层的厚度，并在片材成壳前涂布隔色层和银油胶黏剂层，提高加工成型阶段的膜层受热均匀程度，进一步降低非同质属性材料影响因素，降低反光一体盔加工制造不良率，提升产品质量的稳定性，提高壳体脱模等操作实用性。 |
