电阻式触摸屏用氧化铟锡膜及其制备方法和制备设备
基本信息
申请号 | CN201210251040.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN102766849B | 公开(公告)日 | 2015-03-11 |
申请公布号 | CN102766849B | 申请公布日 | 2015-03-11 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 王学雷;夏国涛;柳锡运;李章国;王春平;王战娥 | 申请(专利权)人 | 深圳南玻显示器件科技有限公司 |
代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 深圳南玻显示器件科技有限公司 |
地址 | 518000 广东省深圳市蛇口沿山路33号南玻工业大厦 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 一种电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备方法,包括如下步骤:在室温条件下,在柔性基片上形成厚度为8纳米~17纳米的氧化铟锡膜;在压强为0.3Pa~0.4Pa的含氧气体中,将形成有氧化铟锡膜的柔性基片于紫外线中照射60秒~100秒后,得到结晶化的氧化铟锡膜;其中,所述紫外线照射的强度为25mw/cm2~35mw/cm2,波长为150纳米~300纳米。上述电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的制备方法制备的电阻式触摸屏用氧化铟锡膜的划线寿命较高。此外,还要提供一种电阻式触摸屏用氧化铟锡膜和其制备设备。 |
