一种连续自动真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN201921895444.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN210736880U | 公开（公告）日 | 2020-06-12 |
| 申请公布号 | CN210736880U | 申请公布日 | 2020-06-12 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 海玉龙;郭红波;周杰 | 申请（专利权）人 | 苏州赛睿达纳米科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 215000江苏省苏州市工业园区胜浦佳胜路3号、4号厂房四层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续自动真空镀膜设备，解决现有技术中存在效率低下、成本增加、镀膜间隔时间长的缺点，包括壳体，所述壳体的内部设有真空镀膜室，所述壳体的两侧分别通过螺母螺栓固定有支架和底座，所述支架的顶部通过螺栓安装有气缸，气缸的内部设置有活塞杆，所述活塞杆的另一端通过螺栓连接有移动隔板，移动隔板端部设有密封件，在每次更换工件时，可先将分隔室封闭，使工件与真空镀膜室的内部分隔，在工件更换进入后，再将分隔室打开进行镀膜加工，此时真空镀膜室内只存有少量的气体，可以快速地将真空镀膜室抽至真空，大大地提高了镀膜加工的效率且降低了生产成本。 |
