一种天然多糖改性树脂及其制备方法和应用、光刻胶
基本信息
| 申请号 | CN202011642781.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112778437A | 公开（公告）日 | 2021-05-11 |
| 申请公布号 | CN112778437A | 申请公布日 | 2021-05-11 |
| 分类号 | C08B37/02;C08B31/00;C08B37/08;C08B37/16;G03F7/004 | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 李海波;李冰;李杰;杨谦;陈昕;王文芳;董栋;张宁 | 申请（专利权）人 | 北京科华微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 余菲 |
| 地址 | 101312 北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供一种天然多糖改性树脂及其制备方法和应用、光刻胶，属于半导体材料技术领域。天然多糖改性树脂以天然多糖为主链结构，以带有酯类保护基团的氨基甲酸酯极性基团部分或全部取代天然多糖结构中的羟基中的氢原子，能够提高以天然多糖改性树脂作为基体树脂在光刻胶常用酯类溶剂中的溶解度，酯类保护基团能够在光酸的催化下脱保护，形成羧酸，使得天然多糖改性树脂溶于碱性显影液中。同时，天然多糖结构中的羟基中的氢原子部分或全部被带有酯类保护基团的氨基甲酸酯极性基团取代后，使得天然多糖改性树脂的侧链具有氨基甲酸酯极性基团，从而改善以天然多糖改性树脂作为基体树脂制成的光刻胶与基片的粘附性。 |
