一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用
基本信息
| 申请号 | CN202110725188.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113234194A | 公开（公告）日 | 2021-08-10 |
| 申请公布号 | CN113234194A | 申请公布日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | C08F222/40（2006.01）I;C08F220/14（2006.01）I;C08F220/20（2006.01）I;C08F8/12（2006.01）I;C09J135/00（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I | 分类 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物; |
| 发明人 | 李杰;李冰;李海波;姚宇晨;陈昕;王文芳;董栋;张宁 | 申请（专利权）人 | 北京科华微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 王丽莎 |
| 地址 | 101312北京市顺义区竺园路4号（天竺综合保税区） | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请提供一种共聚物、底层胶组合物、双层体系及其在双层剥离工艺中的应用。属于半导体技术领域。共聚物由N取代马来酰亚胺单体、溶解速率控制单体、丙烯酸酯疏水性单体和丙烯酸羟乙酯亲水性单体聚合得到。本申请的共聚物不溶解于传统光刻胶的溶剂，可以溶解于碱性溶液中，不溶于水，且具有较高的玻璃化转变温度，并具有较好的化学稳定性和抗刻蚀能力，能够作为双层剥离工艺的底层树脂材料。双层体系包括顶层光刻胶和共聚物形成的底层胶。双层体系能够用于双层剥离工艺，且只需要单次显影和单次显影就可以得到目标光刻图案，大大提高光刻效率。 |
