一种新型的光刻胶剥离液及其应用工艺
基本信息
| 申请号 | CN201310276907.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN103336412B | 公开（公告）日 | 2017-02-08 |
| 申请公布号 | CN103336412B | 申请公布日 | 2017-02-08 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 李冰;陈昕;罗杰·森特;李海波;于晓伟 | 申请（专利权）人 | 北京科华微电子材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京驰纳智财知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 谢亮;赵德兰 |
| 地址 | 101312 北京市顺义区竺园路4号(天竺综合保税区) | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种用于去除基片上多余光刻胶的新型光刻胶剥离液。该剥离液包括用于溶解的有机溶剂，加快去胶速率的解交联催化剂，以及避免基片腐蚀的防腐蚀保护剂。该光刻胶剥离液能够缩短平常去胶周期，对人体和环境都没有毒性，而且对于曝光后发生交联的光刻胶，尤其是负性光刻胶，能够彻底清除，以防止影响其后的使用性能。除此以外，本发明还提供了利用这种光刻机剥离液工艺过程，其中不需要加热、振荡等过程，从而能够提高去胶速度，并且能够避免辅助措施有可能对基片造成的破坏等。 |
