一种射频分控装置和真空镀膜设备
基本信息
| 申请号 | CN202120154202.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214830619U | 公开（公告）日 | 2021-11-23 |
| 申请公布号 | CN214830619U | 申请公布日 | 2021-11-23 |
| 分类号 | C23C14/22（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邓必龙;程培勇 | 申请（专利权）人 | 龙鳞（深圳）新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 潘登 |
| 地址 | 518000广东省深圳市坪山区坪山街道六联社区坪山大道2007号创新广场裙楼202 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种射频分控装置和真空镀膜设备，属于真空镀膜技术领域。射频分控装置包括射频连接板、射频分控板和多个射频电极板，多个射频电极板分为多组，每组射频电极板包括一个正射频电极板和一个负射频电极板，多组射频电极板呈间隔排列设置；射频分控板连接在所有的正射频电极板上，射频连接板设置在所有的负射频电极板上；其中，射频分控板包括主板、支撑板和多个支板，主板上设有射频馈入点，射频馈入点与匹配器电连接，支撑板的一侧设置有主板，另一相对侧设有多个支板，多个支板与多个正射频电极板一一对应电连接。该射频分控装置和真空镀膜设备避免了各射频电极板射频功率分配不均，且具有镀膜均匀的优点。 |
