一种工件架及镀膜系统
基本信息
| 申请号 | CN202010195762.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111235534B | 公开（公告）日 | 2022-06-17 |
| 申请公布号 | CN111235534B | 申请公布日 | 2022-06-17 |
| 分类号 | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邓必龙;郑利勇 | 申请（专利权）人 | 龙鳞（深圳）新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 518000广东省深圳市坪山区坪山街道六联社区坪山大道2007号创新广场裙楼202 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明属于镀膜技术领域，具体公开了一种工件架及镀膜系统。其中，工件架包括：框体，包括分别位于框体相对两侧的两个隔板和位于框体另一侧且连接于两个隔板间的前挡板，两个隔板和前挡板合围形成开口背离前挡板的容纳腔，前挡板上开设有与容纳腔连通的第一通孔；托盘，用于放置镀膜工件，托盘设置在容纳腔内，且托盘与框体连接。镀膜系统包括反应室，反应室内设置有如上的工件架，且反应室的相对两侧开设有单体进气口和泵抽口，前挡板正对单体进气口设置，容纳腔的开口朝向泵抽口设置。本发明提供的工件架及镀膜系统，可以提高工件架内部的等离子均匀性，提高镀膜效率和镀膜质量，降低镀膜成本。 |
