PECVD镀膜设备的控制装置和控制方法
基本信息
| 申请号 | CN202010175155.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN111286725B | 公开（公告）日 | 2022-04-22 |
| 申请公布号 | CN111286725B | 申请公布日 | 2022-04-22 |
| 分类号 | H01L21/31（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 邓必龙;卢慧鹏 | 申请（专利权）人 | 龙鳞（深圳）新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 孟金喆;潘登 |
| 地址 | 518000广东省深圳市坪山区坪山街道六联社区坪山大道2007号创新广场裙楼202 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种PECVD镀膜设备的控制装置和控制方法。该装置包括控制电路；控制电路包括控制单元、数字量输入模组、通信模组和数字量输出模组；数字量输入模组用于获取PECVD镀膜设备的数字状态信号；控制单元与数字量输入模组连接，用于根据数字状态信号形成数字控制信号；数字量输出模组与控制单元连接，用于根据数字控制信号调节PECVD镀膜设备的运行状态；控制单元通过通信模组与PECVD镀膜设备的激发等离子动力源模组、腔室压力调节和测量模组连接，控制单元根据配方参数控制激发等离子动力源模组和腔室压力调节和测量模组的状态调节PECVD镀膜设备的运行状态，提高了PECVD镀膜设备的使用效率和控制精度。 |
