热蒸发坩埚和热蒸发装置
基本信息
| 申请号 | CN202011427178.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112430799A | 公开（公告）日 | 2021-03-02 |
| 申请公布号 | CN112430799A | 申请公布日 | 2021-03-02 |
| 分类号 | C23C14/26(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 倪健;孙志鹏;薛聪 | 申请（专利权）人 | 埃特曼半导体技术有限公司 |
| 代理机构 | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人 | 李辉 |
| 地址 | 518051广东省深圳市南山区招商街道文竹园社区荔园路51源华综合楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种热蒸发坩埚和热蒸发装置。该热蒸发坩埚包括：绝缘坩埚本体，所述绝缘坩埚本体呈一端敞口一端封闭的筒状，所述绝缘坩埚本体的侧壁沿周向间隔设有多个穿线孔，各所述穿线孔均沿所述绝缘坩埚本体的轴向延伸并贯穿所述绝缘坩埚本体的两端；以及加热丝，所述加热丝依次迂回穿过各所述穿线孔。本方案的热蒸发坩埚可有效减少热损耗，提升热蒸发效率。 |
