一种场发射阴极的处理方法
基本信息
申请号 | CN201210595736.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN103077869A | 公开(公告)日 | 2013-05-01 |
申请公布号 | CN103077869A | 申请公布日 | 2013-05-01 |
分类号 | H01J9/02(2006.01)I;C01B31/00(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 纪成友;刘志龙 | 申请(专利权)人 | 青岛红星化工厂有限公司 |
代理机构 | - | 代理人 | - |
地址 | 266000 山东省青岛市李沧区四流北路43号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供一种场发射阴极的处理方法,包括在MWCNT上用化学法包覆钛。电压-电场发射电流(V-I)特性实验结果见可以发现,烧结处理后的样品场发射性能好于未烧结组。 |
